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真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。
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LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料，采用進口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業對金屬，非金屬及其它化合物材料進行燒結﹑融化﹑分析而研制的專用設備。
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多面加熱箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，工作溫度能達到1100℃，可連續工作1000℃，控溫精度±1℃；大功率為1KW, 同時設有通氣接口，可用于氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場均衡、升降溫度速率快、節能 等優點，此外，該款設備還可放置到手套箱內在真空和可控氣氛條件下燒結樣品，是高校、科研院
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定制箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，工作溫度能達到1100℃，可連續工作1000℃，控溫精度±1℃；大功率為1KW, 同時設有通氣接口，可用于氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場均衡、升降溫度速率快、節能 等優點，此外，該款設備還可放置到手套箱內在真空和可控氣氛條件下燒結樣品，是高校、科研院
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