PECVD化學氣相沉積設備質量流量控制系統一款多路質量流量計控制系統，其質量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節約空間。
工作溫度：5~45?C
zui大壓力:3x106 Pa
精度: ±1.5% FS
線性:±(0.5-1.5)%F.S
重復精度: ±0.2%F.S.
流量范圍:
一路:1~199 SCCM
二路:1~499 SCCM
PECVD注意：其他流量范圍的可定制，需額外費用
化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統)常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備技術參數
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