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LFT1200C開啟式單溫區管式爐 適合較高溫度條件下材料燒結處理，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。
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LFT1600C高溫真空管式爐 適合較高溫度條件下材料燒結處理，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。
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LFT系列高溫真空回轉爐 該設備容許粉末樣品在高溫狀態下動態燒結處理，配備磁流體密封裝置，使得整個設備處于真空狀態下工作。特殊樣品倉結構設計，避免傳統回轉爐取樣等繁瑣操作，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在高溫真空添加下處理粉末材料的理想設備
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1200系列三溫區真空管式爐 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，該設備設計為與手套箱對接使用，樣品可*處于相對對立的無水無氧環境
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LFT系列雙溫區真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。
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雙溫區滑軌式CVD系統（含預熱器） 雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統的供氣；真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備
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